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对于邀请加入“2019商标五局配合(TM5)和表面计划五局配合(ID5)用户集会”的告诉
2019年11月01日起源:中华商标协会

各会员单元:

  “2019商标五局(中美欧日韩)配合(TM5)和表面计划五局配合(ID5)用户集会”打算于2019年12月11日和13日在日本千叶县东京湾喜来登大旅店举办,集会轮值主席局是日本特许厅(JPO)。依据JPO供给的日程草案(附件1、附件2),12月11日举行的TM5用户集会议程重要包含:先容五局闭门集会情形、各局向用户先容品质治理措施、局方和用户就用户满足度考察、检察员沟通以及放慢检察3个主题停止小组探讨及总结报告。12月13日举行的ID5用户集会议程重要包含:先容五局闭门集会情形、2019年配合项目结果先容、各局最新停顿及工业界就树立愈加高效的表面计划维护系统提出需要。集会欢送各国企业加入。

  协会引导将带队组团加入集会,以懂得各国商标最新治理静态,提出咱们对相干国度商标治理的倡议和请求。

  盼望有相干营业的代办机构和企业踊跃加入,在集会上声名中国企业的主意和观念。

  参会企业以中华商标协会代表团成员身份参会,参会用度自理,与会职员自行部署来回及留宿等。附件为相干日程和报名表,请有意向参加的企业填写相干信息并于11月13日之前把报名信息发送至international@cta.org.cn邮箱。

  接洽人:中华商标协会国际部 翟潇宇

  接洽德律风:68030515,18612259811。

 

  

  中华商标协会

  2019年11月1日

  附件1 ID5年度集会用户环节日程草案(英文)

  附件2 TM5年度集会用户环节日程草案(英文)

  附件3 工业界代表报名表

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  • 德律风:86-10-68014071
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